热门：

可学答题网 > 问答 > 半导体芯片制造中级工题库,半导体芯片制造工题库

目录：标题| 题干| 答案| 搜索| 相关

问题

将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光

将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。

A接触
B接近式
C投影

参考答案

参考解析：

暂无解析

分类：半导体芯片制造中级工题库,半导体芯片制造工题库

编辑推荐

为了减小摩擦与磨损，可在摩擦副间加入某种物质，使摩擦阻力.....

酸碱灭火器、化学泡沫灭火器属于（）灭火器。..

什么叫全面质量管理？..

患者，女。鼻干3年。鼻涕黄稠，嗅觉丧失，常感食少腹胀，大便.....

股份每周转让5次的公司，信息披露参照上市公司标准执行。（）..

神疲乏力，气短懒言，头晕目眩，面白无华，小便混浊如米泔，.....