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问题

下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。

下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。

A烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
B烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
C烘烤的温度一般在300℃左右
D烘烤的时间越长越好

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分类：集成电路制造工艺员（三级）题库,集成电路制造工艺员题库

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